日本还敢对中国军事冒险吗？关键取决于这个！
根据日本财务省公布的数据，今年上半年，日本贸易收支为逆差7.9241万亿日元，折合人民币3867亿元。
日本出现贸易逆差不是什么大事，毕竟从一二年后就习以为常了。但像这么大规模的逆差，我反正是从没见过，据称上次还是在43年前。
日本是工业国家，如果出口贸易再继续恶化下去，今年的GDP会很难看。
话又说回来，日本的GDP就没好看过。
去年日本GDP是4.8万亿美元，而这个数据在1995年是5.4万亿美元，也就是说过去26年时间里，日本经济不增反降了6000亿美元。再算上通胀引起的货币购买力贬值，蒸发的GDP至少在1.5万亿之上。
增幅方面，以三十年时间为尺，日本为23.36%，中美韩分别为3963.26%、288.03%、414.28%。
人均GDP同样没好到哪里去，20世纪末21世纪初，日本居民平均工资为464万日元，排名仅次于瑞士和冰岛，位列世界第三。而2020年，日本人均工资跌出世界前二十之外，平均工资440万。
看完这些数据和日本制造业现状后，我有一个很大的感悟：日本大概率会成为继南非和阿根廷之后，第三个由发达国家跌落回发展中国家的国家。而该结果将对日本乃至东亚的命运，产生十分深远的影响。
先从一段激荡的风云往事说起...
上个世纪八九十年代，是日本半导体制造业的鎏金岁月，一如太平洋战争初期的形势那般，印刻着MadeinJapan的半导体把美军打得节节败退。在最巅峰的时期，日本控制了世界70%的半导体出货量，全球五大半导体厂商中，有四家是日本企业。而开启信息化时代的美国只有一家，以及只剩下不到30%的市场份额。
支撑日本半导体制造业无限风光的是在上游雕刻芯片的光刻机。
1984年，尼康推出量产型自动化步进式光刻机StepperNSR-1010G，凭借着良好的性能，日企在光刻机市场的规模首次超越美国，不论是老牌巨头GCA抑或是有军方支持的PerkinElme，都被打得毫无还手之力，到90年代，尼康与佳能携手已占据全球80%的光刻机市场。
而在同年成立，后来执掌中高端芯片制造生杀大权的荷兰ASML，彼时还苦苦挣扎于一无资金二市场三无成果的存亡边缘。
1984年，刚从飞利浦剥离而出的ASML，在飞利浦大厦外搭板房做办公地点从光刻机到芯片制造，日本半导体产业成功的秘诀有两点。
一是近水楼台先得月的优势：光刻机刚出来那会儿，技术难度并不高，本质上与投影仪加照相机没啥区别，把设计好的电路图雕刻进硅片就成，无非是精度要高一些。
尼康自1917年成立起，就长期从事相机和显微镜等光学设备的研产，是日本科学界和军方重要的光学设备供应商。佳能稍微晚点，抗日战争全面爆发那一年才成立，同样也是搞相机起步。
1960年，尼康和佳能一道打入美国先进光刻机制造商GCA的供应链，当时主要是提供光学镜头。这两家公司在给GCA做配套的过程中，学习到不少光刻机生产工艺和技术。
这之后的十年时间里，全球半导体产值不断增加，从中嗅到商机的日本政府火速成立集成电路合作研究机构，召集国内七家顶级电子制造业巨头，在半导体全产业领域发力，要钱给钱，要人给人。
而在设备制造这块，日本经产省选中的正是有光刻机配套经验的尼康和佳能。
拿到资源后，两家公司没有辜负日本政府的期望：佳能在1975年研发出世界第一台1微米以下的光刻机FPA-141F，尼康则在1980年推出世界第一台分辨率为1.0µm的光刻机NSR-1010G，从而确立起日本在光刻机领域的绝对霸主地位！
尼康nsr-s635e光刻机
二是集团式作战：为了提升效率和节约成本，从六十年代开始，美国就致力于分工细致化。即，把不同的零部件交给更专业化的供应商来做，而不是像以前那样终端企业既要负责零部件生产，也要负责加工组装。
但日本仍然延续着其传统的集团式作战，在终端企业的系统里，下设诸多零部件供应商，产品从设计到生产再到改良和量产，均在该系统内完成。终端企业只要能发展得好，零部件供应商就能吃香的喝辣的。反之。若终端企业丢掉市场份额，零部件供应商的日子也不好过。
20世纪下半叶，产品供应链并不复杂，集团式作战有着明显的好处，因为大家都在同一个圈子里干活，做的东西既少又比较简单，不同环节间衔接和反馈的效率要高很多，有利于加快产品的迭新换代。
在尼康和GCA的光刻机大战中，两家公司的技术储备其实差不多，GCA输就输在没有自己的镜片技术和生产工厂，需要靠蔡司供应，蔡司的研发和生产未必能跟上GCA的市场节奏，调试契合也要花不少时间。相较之下，尼康拥有完整的镜片技术及生产链，产品更新方面始终比GCA快一步。
而在现代营商环境中，技术的一步之差，决定的是动辄数十亿资金的流向！
GCA岂能不败？
1985年，尼康本着宜将剩勇追穷寇的原则，在美国硅谷成立尼康精机，然后用了数年时间，将原属于GCA的大客户，如IBM、英特尔一一撬走。
面对日本没有任何征兆的产业进攻，美国完全没有办法，只能坐视从材料到设备再到制造的全产业链溃败，以至于产业史将这段黑暗的时代，称之为美国半导体的珍珠港时刻。
转折点发生在90年代中后期。
九十年代初，受基础理论和材料的限制，光刻机的光源波长卡死在193nm已经有二十多年时间了。如果不能向下取得突破，半导体制程就停滞，进而影响整个电子制造业的发展。所以，从提供设备的光刻机厂商，到负责生产的代工商绞尽了脑汁都想再把193nm的波磨细一点。
这场半导体行业的华山论剑，最终衍生出两条技术路线。一条是以尼康为首的稳健派，主张采用157nm的F2激光。
另一条是以台积电和ASML为首的激进派，主张采用时任台积电研发副总监林本坚提出的浸入式光刻法：波长还是沿用193nm的波长，但根据水会影响光折射的物理原理，在硅片和透镜之间加一层1mm厚的水，193nm的激光经过水的折射后，不但轻松越过了157nm，甚至一路降低到132nm。
力挺湿刻法算是台积电和ASML孤注一掷，波长卡死在193nm说实话对尼康和佳能的影响不大，因为它们是全球最大的光刻机供应商，即便波长没有取得技术进展，但只要半导体产业还在，躺着就能赚钱。
但台积电和ASML不行，前者是代工厂，地位不牢固，三星和英特尔的竞争力都不容小觑，随时有被用户换掉的风险，掌握更先进的制程工艺是，站稳脚跟的唯一办法。而后者更惨，除了科研人员要啥没啥。
两个同病相怜的臭皮匠觉得反正日子过得稀烂，不如梭哈一把，大不了输了下海干活，赢了会场嫩模，冲！
幸运的是，身处绝路的台积电和ASML赌赢了！
2004年，台积电与ASML联合研制出全球第一台浸入式光刻机，尼康紧随其后在次年推出157nm的干式微影光刻机。
但问题是尼康的干式微影光刻机是全新产品，采购成本高，技术还不是特别的成熟，厂商买回去后，要经过多道工序的磨合才可以量产。而浸入式光刻机属于小改，设备仍是原来193nm波长的设备，技术成熟度高不说，采购成本和生产成本也很低，稍做调试就能大规模量产。最关键的是，波长做得比尼康更好更短。
直到今天，被视为高端制程的7nm芯片如苹果的A12与华为的麒麟980，仍然用的是193nm浸入式光刻机。
没有丝毫的意外，浸入式光刻机一经推出，英特尔、IBM、ADM等IC制造厂商们趋之若鹜，纷纷抛弃尼康，拥入ASML的怀抱。
此役，ASML和台积电一战封神：
一个成为全球最大的光刻机供应商，一个成为全球最大的半导体代工商！
但半导体厂商们相爱相杀的故事并没有就此结束...
2004年后，ASML份额全面超越尼康，问鼎世界之巅
日本光刻机产业真正覆灭的根源，要追溯到25年前那场多方密谋。
1997年，英特尔在琢磨如何突破193nm波长的瓶颈时，干脆想了个一步到位的办法，用高功率二氧化碳激光器发射波长为13.5nm的极紫外光，这种波长仅为氟化氩激光的十四分之一，能够用于雕刻7nm制程以下的芯片。
不过麻烦也有许多，比如激光波长太短会产生绕射，造成掩膜和晶圆边缘过度曝光，芯片良品率会因此大幅下降。
英特尔深知EUV的研发工程已经超出自身能力范畴，于是拉上尼康、ASML、摩托罗拉、ADM等一众企业找上美国能源部，希望由美国政府部门牵头来做这件事。
事情最后被一层层捅到白宫，当时的总统克林顿很是热衷于科技事务，遂下令科技顾问委员会仔细研究。结论是可行性很高，利润空间很大，但技术难度也堪比登天。为此，经克林顿亲自审批，美国能源部又先后调集劳伦斯利弗莫尔，劳伦斯伯克利和桑迪亚三家国家级实验室，并额外投资2亿美元，资助EUV光刻机的研发。
熟悉美国科技史的朋友应该知道，这三个国家级实验室的数百名科学家，当时是全球科研界最顶尖的人才，没有之一，堪称精英中的精英。美国几乎所有领先世界的科技，源头都是从它们这里出来的。
换句话说，美国决定以倾国之力押注EUV光刻技术，而目的就是为了重新夺回全球半导体产业链控制权。
所以，美国政府对英特尔只提了一个要求：不要尼康！
利益面前，英特尔没有半分地犹豫，哐当一脚便把尼康踢出屋外，剩下的企业和美国能源部及三大国家级实验室组成EUVLCC联盟，正式向光刻技术的最高峰发起冲击！
经过多方的不懈努力，EUV极紫外线光刻机终于从几百篇论文中走进现实。
2007年，ASMLZ在荷兰发布第一台研发用样机NXE3100，看见成果的英特尔三星台积电纷纷掏钱押注。
2015年，首台量产型EUV光刻机亮相，来自全球各地的数百亿订单蜂拥而至。
2018年，ASML正式向台积电交付用于商业运营的EUV光刻机。
2019年，EUV光刻机开始大规模量产芯片。
2020年，搭载由EUV光刻机加工的5nm芯片手机在全球范围内销售。
而在ASML春风得意的马蹄下，是日本光刻机产业的溃不成军。截至去年，ASML垄断了高端光刻机的全部市场，中端领域也是当之无愧的霸主，而给日本留下的中低端市场不足10%。
光刻机的Japan时代从此落下帷幕！
当然，即便EUV联盟没有把尼康排除在外，日本也未必干得过ASML。
七十年代的光刻机跟EUV光刻机的区别，就像是火铳跟导弹的区别，生产难度是不可同日而语的。
EUV光刻机是一种集合了光学、流体动力学、力学、数学、高分子物理学与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别为一体的顶尖技术产物。一台EUV光刻机重180吨，供应链零部件超过10万个，需要从美欧四十多个国家采购。
因此，EUV光刻机不止是顶级科学研究和顶级精密制造的学问，更是顶级国际分工的学问。
很显然，这不是习惯单打独斗的日式生产模式能玩明白的。
光刻机是半导体制造业的上游核心设备，在日本集团式作战的生态里，光刻机的日子不好过，半导体的日子也别想好过！
随着光刻机的Japan时代落下帷幕，日本半导体制造的鎏金岁月也走向终结。
2000年~2020年，日本企业不断从全球IC制造前十强中跌出，到2020年只剩下东芝一家，颇有点帝国余晖的意思在里面。全球市场份额方面更掺，2019年已跌至10%以下，预计到2030年~2035年，日本将彻底地全面地丧失半导体制造能力，这是经产省给的数据。
作为半导体的下游产业，日本的电子制造业在这20年间，也经历了一轮又一轮的亏败。液晶面板、手机、电脑、电视、洗衣机等产业阵地，接连被中国和韩国占领。
大家不妨回忆一下，十五年前，家里电视机、电冰箱、手机、收音机是不是日本品牌居多？
如今你去10个家庭串门，也未必能凑齐三件日本制造。
看完日本光刻机的兴衰史，我们能够得出一个结论：产业是具有多米诺骨牌效应的，在一个产业圈中，某项或某几项核心技术的落后，将引发某条或某几条核心产业链的落后，进而导致整个产业圈的崩溃。
同理，在工业革命缔造的全新产业生态里面，一个国家如果不能把握住几项关键的核心技术，那么他的制造业就会崩盘。
日本目前面临的就是这个问题。
人类社会正处于第四次产业革命的初期，供应链上下游配套正在经历着全方位的洗牌，而日本并没有跟上变迁，其在人工智能、新能源、物联网、可控核聚变技术、量子信息技术等第四次产业革命的核心领域，没有一个能跟上中美欧的节奏。
你现在没有啥感觉，那是因为产业革命从爆发算起到完全成型，会经历很长一段时间。第一次产业革命历时120年，第二次产业革命历时100年，第三次产业革命历时60年。
第四次产业革命时间或许会更短，但眼下刚起步，成果至少需要20年时间才能完全呈现。一旦世界整体迈入第四次产业革命的生态，供应链上下游配套洗牌完成，届时如果日本还没有做出什么改变，大概率会从发达国家跌落到发展中国家，这不是危言耸听。
日本变成发展中国家，首当其冲影响的是中国和东亚地区的安全。当前，日本国内有两大政治势力在拉扯，一派是极右翼和军国主义，主张通过亲美换取国防正常化，然后重新走对外掠夺路线解决经济危机。
另一派是温和派，主张对华友好，他们的理由是中国超越美国成为世界第一大国是大势所趋，尽早跟中国合作，深度嵌入中国的产业链，将来还有机会从中国领导的全球化体系中，还能分到几条高附加值的产业链做。反正是当狗嘛，给美国人当是当，给中国人当也是当。
这两派，一派有历史基础，一派有现实基础，经常斗得不可开交。
需要强调的是，温和派并非是基于历史反省主张友华，而是基于现实利益的角度主张友华。
现在的问题是日本在第四次产业革命中没有掌握啥核心技术，即使跟中国合作仅凭自身的实力，也没法拿到高附加值的产业链，这意味着友华派最大的理论依据没有了，日本以身试险的概率大幅度升高。
诚然，中日之间早已今非昔比，但这并不代表日本不敢战略冒险。当初日本很清楚自己跟美国的实力差距，也明白如果和美国开战，失败机率十之八九，但他们仍怀着侥幸的心理偷袭珍珠港，去争取了那一分的机会。
日本人喜欢赌国运，擅长战略冒险。
1894年它们敢，1903年它们也敢，1941年它们还敢。所以，谁又能断言八十年后的今天它们不敢？
中国和日本不一定会爆发战争，但日本经济和政治的现状，让某些势力发动战争的欲望越来越大，而安倍的死亡又导致发动战争的阈值越来越低，害人之心咱不能有，可防人之心一定不能无啊！